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真空烘烤除氣裝置

作者：華宇分公司時間：2022-12-23點擊：3351次

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該設備與大型微波源對接，可以完成微波在空間不同高度環(huán)境中相關實驗。可以實現某一高度、不同濕度、不同溫度下的環(huán)境模擬實驗。依據這套設備組建成了我國第一個HPM大氣等離子體實驗室。


產品參數

序號

項目

技術參數

1

真空容器尺寸

Φ1800mm×2700mm（L）

2

真空度

1×105Pa～1×10-2 Pa

3

溫度范圍

熱沉溫度在-60℃～40℃范圍內可調，控制點

4

控制精度

±1℃

5

濕度指標

在15℃～40℃范圍內，壓力從2000 Pa～大氣壓，水蒸汽在此壓力范圍內分壓控制精確優(yōu)于±10%